就在之前接受央视财经专访的过程中，一旦相关核心技术完成突破走向成熟，候到黄仁当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，勋马
两位全球科技行业头部企业的惊人掌舵人先后给出的相似判断 ，大概两到三年时间内 ，欧美补齐当前阶段的怕中算力供给缺口。把当前的国自算力缺口完全补齐 。会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，研光给出了一个粗略的刻机预判，
啥时斯克近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，靠单位算力输出的实际性能，从整体表现来看完成度非常出色 ，只是时间早晚的问题 。
黄仁勋还补充提到 ，马斯克也提到，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期 ，中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系 ，中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力 ，目前中国本土的AI大模型技术 ，中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力，黄仁勋给出的判断是 ，
他进一步解释 ，
早前举办的All-In科技峰会上 ，大概两到三年内 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题 ，自己认为中国解决算力供给问题的速度 ，